| 나노반도체장비 원천기술상용화사업 2007년도 신규과제 개발사업자 선정
공고 |
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| 작성자 : 지원대 |
작성일 : 2007-08-09 오전 10:11:20 |
조회수 : 6 | |
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| 산업자원부 공고 제 2007 - 287호 |
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나노반도체장비 원천기술상용화사업 2007년도 신규과제 개발사업자 선정
공고 | | |
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| 국내 반도체산업 경쟁력 강화 및 반도체장비 업계 육성을 위하여
2007년『나노반도체장비 원천기술상용화사업』신규과제를 다음과 같이 공고하오니, 해당 기술을 개발하고자 하는 경우 신청 요령에 따라 기술개발사업
계획을 신청하여 주시기 바랍니다. |
2007년 8월 8일 산업자원부장관 |
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○
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2015년 반도체장비 국산화율
50% 달성 기반마련을 위하여 45~22 나노급 차세대 반도체 제조장비를 상용화하는 사업 - 원천기술 개발에서 발굴, 상용화까지 이어지는
개발 프로그램임 |
○
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총 사업기간 : Ⅰ단계 2007. 10. ~
2009. 9. (2년), Ⅱ단계 2009. 10 ~ 2012. 9 (3년) - 당해년도 사업기간 : 2007. 10 ~ 2008. 9
(1년) - 과제별 연구기간 : 2~5년 (과제별 내역은 홈페이지 또는 사업설명회 자료집 참조) · 지정과제 : 2~5년,
자유응모과제 : 2년 |
○
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과제 구분 - 상용화 과제 : 장비 상용화를
목표로 신제품 개발 및 응용개발을 진행하는 과제 - 원천기술개발 과제 : 다수의 기업이 활용할 수 있는 핵심원천기술 및 공통애로기술의
개발·확보를 위한 선행연구 과제 | |
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○ 총괄관리기관 : 중장기 종합계획 수립, 협약체결, 세부사업의 총괄관리 등 역할
수행 ○ 평가 전담기관 : 세부사업 평가 및 세부과제의 선정, 연차, 최종평가 수행 ○ 주관기관 : 세부과제의 실질적 연구
수행 ○ 참여기업 : 기술개발결과를 사용할 목적으로 참여하는 기업 ○ 위탁기관 : 세부주관기관으로부터 위탁받은 사항에 대한
기술개발사업을 수행하는 비영리 기관 |
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| 구분 |
과제명 |
사업 기간 |
정부출연금(안) (연간) |
지 정 공 모 |
증착장비 |
상용화 |
차세대 high-k 유전막 및 전극 증착장치 |
2년 |
10억원 내외 |
| 극저온 SiO/SiN 박막 증착 장치 |
2년 |
10억원 내외 |
| Low-k 증착장비 |
2년 |
10억원 내외 |
| Plasma를 이용한 oxidation 및 Nitrogen Surface Doping |
2년 |
10억원 내외 |
| Selective Epi, SiC, SiGe 증착 장치 |
2년 |
10억원 내외 |
원천기술 개발 |
32nm 이하 고단차비 구조(STI, ILD) Gap Fill oxide 형성 |
2년 |
6억원 내외 |
| PRAM용 GST(Ge/Sb/Te) 증착용 ALD 장비 |
2년 |
6억원 내외 |
| 하이퍼써멀 중성화빔을 이용한 절연체 박막형성 |
2년 |
6억원 내외 |
| 식각장비 |
상용화 |
32nm급 Oxide etcher |
3년 |
10억원 내외 |
| CMP 장비 |
2년 |
10억원 내외 |
| 저비용/고생산성 Spacer etcher |
2년 |
10억원 내외 |
| Low-k etcher 및 Strip 기술 |
2년 |
10억원 내외 |
| Hard mask etcher |
2년 |
10억원 내외 |
원천기술 개발 |
중성빔을 이용한 damage free etcher |
2년 |
6억원 내외 |
| 검사장비 |
상용화 |
3.2Gbps 고속도 메모리 테스터 장비 |
2년 |
10억원 내외 |
| 자유공모 |
원천기술 개발 |
자유 응모 |
2년 |
과제당 2억원 내외 (4개
내외) | |
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○
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정부출연금 지원
조건 |
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| 주관기관 유형 |
기술개발형태 |
정부출연금 지원비율 |
비고 |
중소기업 벤처기업 |
공동기술개발(산학, 산연, 산학연, 기업간) |
3/4이내 |
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| 단독기술개발 |
1/2이내 |
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| 기타(대기업, 연구소, 대학) |
공동기술개발(산학, 산연, 산학연, 기업간) |
2/3이내 |
주1) |
| 단독기술개발 |
1/3이내 |
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주1)
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상기 정부출연지원비율과 관련,
주관기관 유형 및 기술개발 형태가 기타(대기업, 연구소, 대학 등), 공동 기술개발에 해당하더라도 참여기업이 2개 미만이거나 참여기업중 중소기업
비율이 3분의 2 미만인 경우에는 정부출연금 지원 비율이 2분의 1이내임 |
※
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단, 원천기술개발 과제는 총 사업비의 100%이내까지
정부출연금을 지원 | |
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○
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민간 부담 현금은 연차별 합계 금액에 대하여 1차년도
10%, 2차년도 15%, 3차년도 20%, 4차년도 20% 이상을 부담하여야 함 - 단, 주관기관이 중소기업인 경우 민간부담 현금은
연차별 차수와 상관없이 연차별 합계 금액의 10%이상으로 함 | |
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○
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주관기관 - 원천기술개발
과제 : 비영리기관 - 상용화 과제 : 정부출연연구기관, 국공립연구기관, 전문생산기술연구소, 연구조합, 대학, 기업, 사업자단체, 기타
산업기술혁신촉진법의 규정에 의한 산업기술개발사업 실시기관 |
○
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위탁기관 : 비영리기관 |
○
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‘비영리기관’이라 함은 아래의 기관을 말함 -
국·공립연구기관 - 정부출연연구기관 등의 설립·운영 및 육성에 관한 법률에 의한 정부출연연구기관 - 특정연구기관육성법에 의한
특정연구기관 - 고등교육법에 의한 대학·산업대학·전문대학 또는 기술대학 - 산업기술기반조성에 관한 법률에 의한
전문생산기술연구소 - 기타 산업자원부장관이 인정하는 비영리 연구기관 | |
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신청서 교부기간 : 2007. 8. 8(수) ~ 8. 28(화) |
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파일 1 : 사업계획서 |
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파일 2 : RFP (증착분야) |
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파일 3 : RFP (식각분야) |
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파일 4 : RFP (검사분야) |
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파일 5 : 산업기술분류표 |
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파일 6 : 사업비 비목별 계상 기준 |
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파일 7 : 정량적 목표 항목의 성능지표 |
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파일 8 : 참여기업/위탁기관 대표의 참여의사 확인서 |
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파일 9 : 신청과제의 인터넷 전산 등록 안내 |
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파일10 : 나노반도체장비원천기술상용화사업 관리지침 |
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파일11 : 단기핵심기술개발사업 관리지침 | |
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○
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신청서 접수 : 2007년. 8. 20(월) ~ 8. 28(화) - 양식 교부 및 접수안내 : 산업기술지원
홈페이지 (http://www.itech.go.kr) - 인터넷(http://www.itech.go.kr) 으로
전산양식에 등록하여 접수번호를 부여 받은 후 전산 접수증, 사업계획서 11부(원본1부 포함) 및 기타 첨부서류를 우편 또는 직접 제출 (마감일
18시까지 도착분에 한함) ※ 우편으로 제출시에는 표지에 과제번호, 신청과제명, 신청기관명, 실무담당자 연락처를 필히 기재 -
제출된 서류는 일체 반환하지 않음 - 접수처 : 산학연구지원과 조혜연(tel: 950-6086) |
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○
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문의처 - 총괄관리기관 : 한국반도체연구조합
전재민 대리 (02-570-5261) - 사업내용 문의 - 평가전담기관 : 한국산업기술평가원 단기평가실 김병재
연구원(02-6009-8135) - 전산접수 문의 | |
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○ 사업설명회 : 2007년 8월 13일(월) 14시 / aT센터 3층 중회의실 (서울
양재 所在) ○ 서류심사 및 발표평가 : 9월 초 ○ 협약 및 사업시작 : 10월 1일 |
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○
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과제별로 최종평가 결과
“성공”으로 평가될 경우, 기술개발종료 시점에서 정부출연금의 일부를 아래와 같이 정액기술료로 납부하여야 함 |
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| 주관기관 유형 |
세부 구분 |
정액기술료율 |
| 기업 |
대기업 |
총 지원 정부출연금의 40% |
| 중소기업 |
총 지원 정부출연금의 20% |
| 기타(대학, 연구소, 사업자단체 등) |
중소기업의 민간부담금이 총 민간부담금의 50% 이상 |
총 지원 정부출연금의 20% |
| 중소기업의 민간부담금이 총 민간부담금의 50% 미만 |
총 지원 정부출연금의 40% | |
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| * 단, 원천기술개발과제는 기술료를 징수하지
않음 | |
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○
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다음의 경우는 지원대상에서 제외함 |
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신청과제가 공고된
과제제안요구서(RFP)의 목표 및 내용에 해당하지 않는 경우 * 자유응모과제의 경우 한국산업기술평가원
홈페이지(www.itep.re.kr) 및 국가연구개발사업 종합관리시스템(www.kordi.go.kr) 등에서 사전에 중복성을 검색하신 후 신청서
제출 요망 |
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주관기관이 공고일 현재 창업(사업자등록증 기준)한지
1년 미만의 기업인 경우 |
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신청과제의 주관책임자가 접수마감일 현재
정부출연연구과제(타 부처사업 포함)를 3개 이상 책임자로 수행하고 있는 경우 또는 참여연구원으로 5개 이상(책임자 수행과제 포함) 수행하고 있는
경우 (잔여연구기간이 6개월 미만인 과제는 제외) |
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주관기관, 참여기업, 주관책임자 등이 접수마감일 현재
각종 보고서 제출, 기술료 납부, 기술료 납부계획서 제출, 정부출연금 정산 잔액 및 환수금 납부 등의 의무사항을 불이행한 경우 |
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주관기관, 주관기관장, 참여기업, 참여기업대표,
주관책임자 등이 접수마감일 현재 국가연구개발사업에 참여제한 중인 경우 |
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주관기관, 주관기관장, 참여기업, 참여기업대표,
주관책임자 등이 아래의 기준에 해당되는 경우 ① 기업의 부도 ② 금융기관 등의 채무불이행자 ③ 법정관리, 화의기업(단, 법원의
화의 및 회사정리인가 결정을 받은 후 법원에 제출한 회의계획안 또는 정리계획안의 채무변제 계획을 정상적으로 이행하는 업체는 예외) ④
최근년도말 부채비율이 500% 이상 ⑤ 최근년도말 유동비율이 50% 이하 ⑥ 완전자본잠식 ⑦ 외부감사 기업의 경우 최근년도
감사의견이 ‘의견거절’ 또는 ‘부적정’ | |
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사업추진과 관련하여 본 공고에서 정하지 아니한 사항은
『나노반도체장비원천기술상용화사업관리지침』을
적용 | | |